MDP (Mask Data Preparation) 란?

MDP (Mask Data Preparation) 이란?

반도체에서 Data Preparation (DP) 또는 Mask Data Preparation (MDP)는 반도체 설계 파일(GDS, OASIS)를 Mask(Photomask)로 제작하기 위해 필요한 데이터 포맷으로 변환하는 과정을 지칭합니다. 이와 같은 MDP 과정을 거치면 GDS나 OASIS로 저장되어 있는 설계 파일은 Mask 제작을 위한 MEBES(Manufacturing Electron Beam Exposure System)와 같은 포맷으로 변환이 되고, 해당 파일을 Mask Shop에 전달해 e-beam lithography 공정을 통해 Mask를 제작하게 됩니다.

그런데 MDP의 경우 단순히 파일의 형태만 변환하는 작업이 아닌 Boolean 연산을 통한 Layer 생성, 패턴의 균일도를 향상시키기 위한 Dummy 삽입, Photo 공정시 발생되는 패턴의 광근접 효과 보정(OPC) 등 반도체의 생산성(수율)을 높이기 위한 Mask 패턴의 변형이 함께 수행되는 아주 복잡한 과정입니다.

OPC와 같이 광학적 한계를 극복하기 위해 적용하는 기술들을 일반적으로 RET(Resolution Enhancement Technique)라고 부르며, OPC 외에도 SRAF (Sub-Resolution Assist Features) 패턴 삽입 등 다양한 기술들이 패턴의 광학적 왜곡을 보정하기 위해 MDP 과정 중에 적용됩니다.

또한, MDP는 Mask에 만들어지는 패턴을 직접적으로 변형하는 작업이기 때문에 패턴의 변형이 정상적으로 적용 되었는지(Optical Rule Check), 설계 제약(Design Rule Check)을 위반하지는 않았는지, 변환된 파일로 Mask 제작시 문제가 없는지(Mask Rule Check) 등 다양한 검증 작업 또한 같이 수행되며, 검증이 모두 완료 된 후 해당 파일을 기반으로 Mask를 제작하게 됩니다.

즉, 위와 같은 MDP라는 과정을 통해 반도체 Chip 설계도가 Mask 설계도로 변환되며, 이를 통해 제작된 Mask는 Photo 공정을 통해 Wafer 위에 패턴을 형성하는 데 사용됩니다.